AI 핵심 요약
beta- 중국이 12월 17일 EUV 노광장비 시제품을 완성해 테스트 중이라고 로이터가 보도했다.
- 해당 프로젝트는 화웨이·ASML 출신 엔지니어 등이 참여한 중국판 '맨해튼 프로젝트'로 2028~2030년 국산 EUV로 칩 생산을 목표로 한다.
- 중국은 액침 DUV 노광장비 양산에도 착수했으나 기술 격차로 ASML 영향은 제한적이라는 평가 속에 ASML 주가는 급락했다.
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[서울=뉴스핌] 최원진 기자= 중국이 액침(이머전·immersion) 심자외선(DUV) 노광장비 국산화에 성공했다는 보도가 나오며 반도체 시장에 충격파가 번진 가운데, 지난해 12월 로이터통신이 단독 보도한 중국의 극자외선(EUV) 노광장비 개발 프로젝트가 다시 주목받고 있다.
로이터는 지난해 12월 17일(현지시간) 중국 과학자들이 광둥성 선전시의 고보안 연구시설에서 EUV 노광장비 시제품을 완성했다고 보도했다. 미국이 수년간 막으려 했던 바로 그것이다. 미국은 도널드 트럼프 행정부 1기 때인 2019년부터 네덜란드 정부를 압박해 반도체 장비 기업 ASML의 EUV 대중 수출을 전면 차단했다.
◆ 차이나 '맨해튼 프로젝트'의 전개
당시 보도에 따르면 소식통들은 해당 시제품의 경우 ASML 출신 전직 엔지니어들이 ASML의 EUV 장비를 역설계해 만들었다고 전했다.
EUV 장비는 인간 머리카락 두께의 수천분의 1에 불과한 회로를 실리콘 웨이퍼에 새기는 기술로 현재 서방이 독점하고 있다. 시제품은 2025년 초 완성돼 테스트가 진행 중이다. 극자외선 생성에는 성공했으나 실제 작동하는 칩을 생산하지는 못한 것으로 전해졌다.
중국 정부는 2028년 시제품으로 작동 칩 생산을 목표로 삼고 있으나 내부 관계자들은 2030년이 더 현실적이라고 본다. 그럼에도 이는 전문가들이 예상한 10년보다 훨씬 앞선 시간표다.
이 프로젝트는 6년간의 정부 주도 반도체 자립 이니셔티브의 정점이다.
엔지니어 출신의 딩쉐샹 국무원 부총리가 이끄는 공산당 중앙과학기술위원회 산하에서 극비리에 추진됐으며 화웨이가 전국 수천 명의 엔지니어를 포함한 기업·국책연구소 네트워크를 조율하는 핵심 역할을 맡고 있다. 관계자들은 이를 미국의 '맨해튼 프로젝트'에 빗대고 있다. 목표는 완전히 중국산 장비로 첨단 칩을 생산할 수 있게 되는 것이다.
◆ ASML 출신들이 주축이 된 별동대
프로젝트의 핵심 동력은 ASML 출신 인재들이다. 중국은 2019년부터 해외 반도체 인재 유치를 위해 300만~500만 위안의 계약금과 주택 구입 보조금 등 파격적 조건을 제시해왔다.
ASML에서 광원기술 책임자로 일했던 린난도 영입됐는데, 그의 팀은 18개월 만에 EUV 광원 관련 특허 8건을 출원하는 성과를 냈다. 채용된 엔지니어들은 가명이 적힌 신분증을 발급받는 등 철저한 보안이 유지됐다.
핵심 기술 과제는 역시 광학 시스템 구축이다. 아직까지는 ASML의 주요 공급사인 독일 칼자이스 수준의 정밀 광학계 확보에 어려움을 겪고 있다. 중국과학원 산하 창춘광학정밀기계물리연구소(CIOMP)가 EUV 광원과 광학 시스템 통합에 돌파구를 마련했지만 추가 개선이 필요한 것으로 알려졌다.
반도체 분석업체 세미애널리시스의 제프 코크 전 ASML 엔지니어는 "기술적으로 실현 가능하다는 것은 의심할 여지가 없으며 문제는 시간표뿐"이라며 "상용 EUV가 이미 존재한다는 점에서 중국은 제로(0)에서 시작하는 것이 아니라는 이점이 있다"고 밝혔다. 일종의 후발자 이익이다. 여기에 쉼없이 이어지는 정부 지원금이 전체 프로젝트를 떠받치고 있다.
◆통과 지점에 불과한 DUV 양산
지난 27일 정보기술(IT) 전문매체 디 인포메이션에 따르면 중국은 첨단 반도체 제조에 필수적인 액침 DUV 노광장비의 자체 양산에 들어갔다. 28일(현지시간) 로이터는 상하이 소재 국영기업 아이셩나전자기술그룹이 중국 주요 리소그래피 스타트업들을 흡수해 해당 DUV 생산을 주도하고 있다고 전했다.
아이셩나는 2023년 8월 70억 위안의 자본금으로 설립된 국영기업으로 화웨이 계열 장비업체 신카이라이(新凱來·SiCarrier·사이캐리어)의 관계사 위량성(宇量昇) 테크놀로지와 노광 기술을 보유한 상하이웨이뎬쯔(上海微電子·SMEE)의 팀을 흡수했다.
아직 ASML 경쟁 모델과 격차가 크며 추가 테스트가 필요하다. 중국 DUV 노광장비 양산을 처음 보도한 디 인포메이션은 업체명 아이셩나를 언급하진 않았지만, 이 업체가 올해 5대, 내년 20대 안팎의 DUV 장비를 중신궈지(中芯國際·SMIC)와 창신메모리(長鑫科技·CXMT), 화훙훙리(華虹宏力·지난 6월 8일 화훙반도체에서 기업명 변경) 등 자국 주요 반도체 제조사에 전달할 계획이라고 알렸다.
JP모간체이스 애널리스트들은 "소수의 액침 DUV 장비를 생산하는 것은 수천 번의 웨이퍼 공정에서 수율·오버레이·처리량·신뢰성이 요구되는 양산 수준의 장비 생산과는 차원이 다르다"며 ASML의 중기 실적에 미치는 영향은 제한적이라고 분석했다. 그럼에도 이 소식이 전해진 26일 ASML 주가는 8% 급락했다. 이 다음날인 27일에도 2.9% 더 내렸다.
wonjc6@newspim.com
